Neue Spektrometergeneration ELIAS III ausgeliefert; LTB investiert in die Spektrometerentwicklung

ELIAS III Spektrometer mißt 20 fm bei einer Wellenlänge von 193 nm

 

Berlin, 21.Juli 2004 - LTB Lasertechnik Berlin GmbH hat die ersten Geräte ihrer jüngsten Spektrometergeneration ELIAS III an mehrere Lithographielaser-Hersteller ausgeliefert. ELIAS III kann eine minimale Linienbreite von 20 Femtometern Halbwertsbreite bei einer Wellenlänge von 193 Nanometern messen. Dies entspricht einer spektralen Auflösung von 10 Millionen.
Um solch eine schmale Linienbreite messen zu können, ist es erforderlich, das Auflösungsvermögen bzw. die Systemfunktion des Spektrometers mit einem spektral wesentlich schmaleren Laser nachzuweisen. Deshalb hat LTB den europaweit ersten 193 nm-Laser “Indigo-DUV“ der Firma Coherent mit einer FWHM von 6 Femtometern erworben.
Da der Kauf eines solchen Lasers eine hohe Investition erfordert, bietet die LTB GmbH Interessenten die kommerzielle Nutzung des Lasers im firmeneigenen Applikationslabor an.

 

Die ELIAS III Serie wird mit einer spektralen Auflösung bei 193 nm von 20 fm FWHM (d. h. 150 MHz bzw. 0,005 cm-1) und 175 fm E95 angeboten. Zur Charakterisierung der spektralen Reinheit von Lithographielasern hat sich international die Definition durchgesetzt, die spektrale Breite zu vermessen, in der 95 % der Energie enthalten sind. Eine solche Messung ist nur dann möglich, wenn man mit einem sehr hohen Signal-Rausch-Verhältnis (typ. 20 000, > 40 dB) messen kann. Gegenüber Fabry-Perot-Spektrometern, die ohne weiteres Halbwertsbreiten im genannten Bereich messen können, ist es auch möglich, den Fußbereich und die spektrale Umgebung quantitativ zu analysieren.

ELIAS III ist das jüngste patentierte Modell in der Reihe höchstauflösender Spektrometer, die LTB in Zusammenarbeit mit dem Institut für Spektrochemie und angewandte Spektroskopie (ISAS) Berlin entwickelt hat.

Das Haupteinsatzgebiet dieser höchstauflösenden Spektrometer ist die spektrale Charakterisierung von Excimerlasern in der Mikrolithographie bei 248 nm, 193 nm und 157 nm. Sie bestimmen dadurch indirekt die Qualität der mittels der optischen Laserlithographie produzierten Halbleiterschaltkreise. Die Qualität des Belichtungsprozesses wird durch die spektralen Eigenschaften der verwendeten Laser sowie der Linsenoptiken bestimmt. Die Verbesserung der spektralen Bandbreite des Lasers ermöglicht die Verringerung der Strukturgrößen. Mithilfe des ELIAS ist es den Herstellern von Lithographielasern gelungen, ihre Lichtquellen dahingehend weiterzuentwickeln, daß heute Strukturbreiten von 65 nm erreicht werden können.

Die optische Lithographie ist jedoch nur ein Anwendungsgebiet der ELIAS-Baureihe. Weitere Anwendungen liegen in der Atomabsorptionsspektroskopie und der Laserdiodenentwicklung.

LTB Lasertechnik Berlin GmbH ist ein führender Entwickler und Anbieter von Kurzpulslasern, laserbasierten Meßsystemen und Meßinstrumenten für Laser.

 

 

 

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